l’expérience et on laisse le gaz reprendre la température du laboratoire. Il ne s’est produit aucun dépôt de silicium, l’éprouvette de verre n’a pas été dépolie, le volume est resté constant et les propriétés du gaz n’ont pas varié.
La même expérience répétée sur un mélange à volumes égaux de fluorure de silicium et d’oxygène a donné des résultats identiques.
L’action de l’étincelle d’induction sur le trifluorure de phosphore a été décrite avec détails dans un Mémoire précédent[1]. Nous rappellerons donc rapidement les résultats. Si le gaz trifluorure de phosphore est absolument sec, le volume diminue, il se dépose du phosphore sur la paroi de l’éprouvette et l’on obtient finalement un mélange gazeux de trifluorure et de pentafluorure de phosphore. Comme il n’y a pas formation de fluorure de silicium (l’éprouvette n’est même pas dépolie), il faut ad-
- ↑ H. Moissan, Sur la préparation et les propriétés du trifluorure de phosphore (Annales de Chimie et de Physique, 1re série, t. VI, p. 433).
